NexION 系列 ICP-MS 赋能高端新材料 —— 痕量杂质分析前沿技术与应用-珀金埃尔默企业管理（上海）有限公司-仪器信息网3i讲堂

NexION 系列 ICP-MS 赋能高端新材料 —— 痕量杂质分析前沿技术与应用

聚焦高端新材料产业中超痕量杂质精准分析的技术痛点与应用需求，结合NexION系列ICPMS技术优势，重点阐述DRC动态反应池模式在复杂基体高干扰场景下的抗干扰优势，依托高效干扰消除机制，有效去除多类质谱重叠、基体重干扰问题，大幅提升检测灵敏度与结果准确性。针对超高纯材料检测难点，系统介绍高纯稀土、高温合金、高纯钴、钼及锆等等关键新材料与高纯金属物料的杂质分析方案，针对性解决高纯度材料基质复杂、杂质含量极低、干扰难以扣除等检测难题。为高端新材料研发、品质管控与产业高质量发展提供可靠的核心分析技术支撑。