“国产半导体制程迈入7nm以下，缺陷检测面临“纳米级缺陷捕获” 效率极低，传统系统难以支撑实时分析，同时半导体缺陷检测设备国产化率不足10%，核心设备依赖美日企业，导致采购成本高、维护周期长，后续升级困难等。鑫图光电深耕高端科研成像行业近20年，以专业的图像信号处理能力、超高真空深度制冷技术，超快的数据传输带宽，以及低至13.5nm，193nm等短波光谱成像工艺经验，为半导体行业提供科学级制冷高速TDI相机，以超高信噪比的专业图像，精确捕捉晶圆生产工艺段极其微小缺陷，为半导体设备的国产化提供核心成像解决方案。