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[报告] ITO 薄膜在不同厚度条件下的电阻率与应力演变

报告时间: 2026-04-16 06:00

KLA全方位薄膜表征解决方案:从膜厚、电阻、应力到纳米力学的多维解析

2026年04月16日 06:00

张骏 KLA

博士/应用经理,2013年6月毕业于复旦大学物理学系,获得学士学位,2013-2018年于复旦大学应用表面物理国家重点实验室学系,研究方向超导材料合成和物理性质表征,超导材料超高压下物理性质表征。曾于中国物理学快报,超导科学与技术,NPJ量子材料,物理评论快报等杂志上发表多篇学术论文,2018年6月获得凝聚态物理博士学位。他于2018年加入科磊半导体设备技术(上海)有限公司,承担应用工程开发工作。工作期间,他参与了多个技术项目的开发和支持工作,包括探针式轮廓仪,白光干涉技术,相依干涉技术,点阵式共聚焦技术,反射式膜厚测量技术,方阻测量技术等,积累了丰富的测量经验和客户案例。

以ITO薄膜为例,研究结合膜厚、方阻、反射光谱、晶粒尺寸及应力等多种量测手段,系统分析了电阻率随厚度增加而降低的趋势及其空间分布成因。同时,通过 Stoney 方程与形貌分析揭示应力由拉应力向压应力转变的机制,指出晶粒由等轴向柱状演变与沉积条件密切相关。最终提出可通过建立应力图谱优化 ITO 制程与薄膜可靠性。

科磊KLA

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