领域分类:材料_纳米材料_其他
检测项目:
1. 设备型号
TF20 场发射透射电镜,配备能谱仪
2.原理
透射电子显微镜(Transmission electron microscope,缩写TEM),简称透射电镜,是把经加速和聚集的电子束投射到非常薄的样品上,电子与样品中的原子碰撞而改变方向,从而产生立体角散射。散射角的大小与样品的密度、厚度相关,因此可以形成明暗不同的影像,影像将在放大、聚焦后在成像器件(如荧光屏、胶片、以及感光耦合组件)上显示出来。
3. 主要规格及技术指标
最高加速电压 | 200KV |
电子枪 | 场发射(FEG) |
点分辨率 | 0.24nm |
晶格分辨率 | 0.14nm |
最小束斑尺寸 | 1.5nm |
放大倍数 | 25X~1030KX |
样品台最大倾转角 | A:±40° B:±40° |
X射线能谱分辨率 | 136eV |
分析范围 | Be~U |
4. 主要功能及应用范围
观察各种材料的微观结构并对样品进行纳米尺度的微区分析,如:
形貌观察;
高分辨电子显微像;
电子衍射;
会聚束电子衍射;
衍射衬度成像;
X射线能谱分析等。
5. 送样需知
5.1粉末样品基本要求
(1)单颗粉末尺寸最好小于1μm;
(2)无磁性;
(3)以无机成分为主,否则会造成电镜严重的污染,高压跳掉,甚至击坏高压枪;
5.2块状样品基本要求
(1)需要电解减薄或离子减薄,获得几十纳米的薄区才能观察;
(2)如晶粒尺寸小于1μm,也可用破碎等机械方法制成粉末来观察;
(3)无磁性;
6. 案例分析
(1)FIB+HRTEM+EDS 半导体薄膜领域
(2)FIB+TEM+EDS 半导体LED领域
(3)磨抛+离子减薄+HRTEM 量子阱领域
(4)FIB+HRTEM+EELS 纳米线截面观察及能谱分析
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